触摸屏激光蚀刻原理（屏幕蚀刻）

摘要： 4、蚀刻的工作原理有哪些?...

本篇目录：

• 1、激光加工的原理及特点是什么?
• 2、激光雕刻和蚀刻有啥区别么
• 3、蚀刻原理
• 4、蚀刻的工作原理有哪些?
• 5、激光是什么原理?
• 6、蚀刻曝光和显影是什么意思

激光加工的原理及特点是什么?

原理 激光加工是将激光束照射到工件的表面，以激光的高能量来切除、熔化材料以及改变物体表面性能。

激光加工是将激光束照射到工件的表面，以激光的高能量来切除、熔化材料以及改变物体表面性能。

激光加工是将激光束照射到工件的表面，以激光的高能量来切除、熔化材料以及改变物体表 面性能。

激光快速成型技术特点大概可分为一下集中：制造速度快，成本低，节约了时间和成本。采用非接触的加工模式，没有传统加工的残余力问题，工具的更新问题，无切割、噪声等，有利于保护环境。

激光加工是利用光的能量经过透镜聚焦后在焦点上达到很高的能量密度，靠光热效应来加工的。激光加工不需要工具、加工速度快、表面变形小，可加工各种材料。用激光束对材料进行各种加工，如打孔、切割、划片、焊接、热处理等。

激光雕刻和蚀刻有啥区别么

是不一样的哦，从原理上通俗的说，激光雕刻是利用激光束的灼烧使介质表面的局部实现气化，而蚀刻是利用物质间的氧化还原反应实现金属溶解的。二者的效果、应用范围、生产效率等方面都是有区别的。

激光镭雕、蚀刻和丝印都是制作和印刷标志或图案的方法，但它们之间存在一些关键区别。 工艺原理：激光镭雕是通过使用高能量激光束对材料表面进行刻蚀，从而形成图案。

，蚀刻工艺相对激光雕刻来说流程复杂，需要前期处理、制版、蚀刻、上漆等诸多工序，而激光蚀刻就简单很多。2，从生产效率上讲，蚀刻可以批量同时进行蚀刻生产。而激光雕刻只能一个个的进行，适合小批量。

激光蚀刻，一般是指精密激光划线，半导体行业这么称呼的。激光雕刻，就很泛，基本就是利用聚焦激光直接刻出需要的文字、图像，有CO光纤、半导体、绿光等等。产品标记文字，一般是激光打标，属于激光雕刻。

不管是蚀刻、还是激光雕刻、亦或是刀头雕刻，只要深度足够深都可以叫做深刻。一般说来，目前的激光雕刻在金属上面的雕刻深度还是很有限的，不像蚀刻那样有着足够的深度，所以两类工艺的使用范围也是不同的。

蚀刻原理

1、蚀刻，俗称腐蚀、烂版、腐刻等。其原理就是利用金属和溶液之间发生氧化还原反应，从而达到选择性溶解的目的，这就是蚀刻。在电子行业和广告装饰行业具有非常广泛的应用。

2、蚀刻，通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

3、电蚀刻是利用金属在以自来水或盐水为蚀刻主体的液体中发生阳极溶解的原理，（电解的作用下）将金属进行蚀刻，接通蚀刻电源，从而达到蚀刻的目的。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。

4、蚀刻（etching）又称为光化学蚀刻，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，可分为湿蚀刻（wetetching）和干蚀刻（dryetching）两种类型。

蚀刻的工作原理有哪些?

1、蚀刻，俗称腐蚀、烂版、腐刻等。其原理就是利用金属和溶液之间发生氧化还原反应，从而达到选择性溶解的目的，这就是蚀刻。在电子行业和广告装饰行业具有非常广泛的应用。

2、化学蚀刻法—用强酸或强碱溶液直接对工件未被保护部位进行化学腐蚀，这也是目前使用最多的一种方法，优点是蚀刻深度可深可浅，蚀刻速度很快，缺点是腐蚀液对环境有很大的污染，特别是蚀刻液不易回收。

3、电蚀刻是利用金属在以自来水或盐水为蚀刻主体的液体中发生阳极溶解的原理，（电解的作用下）将金属进行蚀刻，接通蚀刻电源，从而达到蚀刻的目的。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。

4、激光刻蚀的基本原理是将高光束质量的小功率激光束（一般为紫外激光、光纤激光）聚焦成极小光斑，在焦点处形成很高的功率密度，使材料在瞬间汽化蒸发，形成孔、逢、槽。其加工工艺包括激光微纳切割、划片、刻蚀、钻孔等。

5、线路板的蚀刻，其原理就是利用金属和溶液的氧化还原反应达到蚀刻的目的。不管什么系列的蚀刻液，至少都包括氧化剂和酸性添加剂。氧化剂是发生氧化还原反应的必要条件，而酸性介质却是保证蚀刻持续进行的充分条件。

6、电解 蚀刻 实际就是电解某种金属材料，如 电解铜 、铁等。具体做法是将要蚀刻的制件做阳极，用耐蚀金属材料做辅助阴极。将阳极连接电源的正极，辅助阴极连接电源的负极。如图6—7所示。

激光是什么原理?

1、激光原理：光与物质的相互作用，实质上是组成物质的微观粒子吸收或辐射光子，同时改变自身运动状况的表现。微观粒子都具有特定的一套能级（通常这些能级是分立的）。

2、激光全称激光辐射，是一种具有高度集束性、单色性、相干性、极强光强和方向性的光束。它的原理是利用激活介质的能级结构进行激发，使得产生的光子在光学谐振腔中得到反复放大，最终就可以输出强度相对高且高度一致的激光束。

3、一般可以用气体放电的办法来利用具有动能的电子去激发介质原子，称为电激励；也可用脉冲光源来照射工作介质，称为光激励；还有热激励、化学激励等。各种激励方式被形象化地称为泵浦或抽运。

4、激光产生的机理是自发辐射与受激辐射自发辐射是在没有任何外界作用下，激发态原子自发地从高能级向低能级跃迁，同时辐射出一光子。产生激光的首要条件是实现粒子数反转。能够实现粒子数反转的介质称为激活介质。

5、这种现象叫做光的干涉，所以激光是相干光。而普通光源发出的光，其频率、振动方向、相位不一致，称为非相干光。闪光时间可以极短。

蚀刻曝光和显影是什么意思

1、曝光、显影、蚀刻这些术语说的是在使用感光油墨来制作标牌流程中的某些环节。感光油墨是一种对紫外线敏感的抗蚀刻介质，其使用步骤类似于传统相纸冲洗照片的过程，最终在金属介质上形成保护膜。

2、在显影 去除掉未被曝光的干膜，经过蚀刻也就是将不需要的铜蚀刻掉，再经过腿模得到想要的线路图形。

3、曝光是指将图像或材料置于光线中，使其感光。这一过程主要用于摄影和摄像，其中，曝光的控制会直接影响到最终图像或影片的明暗程度、反差、色彩饱和度和颗粒细腻度。在正确的曝光下，图像的细节、色彩和对比度都将得到优化。

4、蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

5、显影——将曝光的基板放在显影液里冲洗，未曝光的干膜可溶于显影液，曝光的刚好相反，所以经过显影形成干膜图形。

到此，以上就是小编对于屏幕蚀刻的问题就介绍到这了，希望介绍的几点解答对大家有用，有任何问题和不懂的，欢迎各位老师在评论区讨论，给我留言。